，主要有氮化鈦（TiN）氮碳化鈦（TiCN）高鋁鈦（ALTiN）氮化鉻（CrN）碳氮化鉻（CrCN）氮化鋁鈦（TiALN)氮化鉻鋁（ALCrN）類金剛石（DLC）涂層等。

  生產(chǎn)上常用的涂層方法有兩種：物理氣相沉積(PVD) 法和化學氣相沉積(CVD) 法

。前者沉積溫度為500℃，涂層厚度為2~5μm；后者的沉積溫度為900℃~1100℃，涂層厚度可達5~10μm，并且設備簡單，涂層均勻。因PVD法未超過高速鋼本身的回火溫度，故高速鋼刀具一般采用PVD法，硬質(zhì)合金大多采用CVD法。硬質(zhì)合金用CVD法涂層時，由于其沉積溫度高，故涂層與基體之間容易形成一層脆性的脫碳層(η相)，導致刀片脆性破裂。近十幾年來，隨著涂覆技術(shù)的進步，硬質(zhì)合金也可采用PVD法。國外還用PVD/CVD相結(jié)合的技術(shù)，開發(fā)了復合的涂層工藝，稱為PCVD法(等離子體化學氣相沉積法)。即利用等離子體來促進化學反應，可把涂覆溫度降至600℃以下(目前涂覆溫度已可降至180℃~200℃)，使硬質(zhì)合金基體與涂層材料之間不會產(chǎn)生擴散、相變或交換反應，可保持刀片原有的韌性。據(jù)報道，這種方法對涂覆金剛石和立方氮化硼(CBN)超硬涂層特別有效