。九十年代中期，中溫化學氣相沉積（mt-cvd）新技術(shù)的出現(xiàn)使cvd技術(shù)發(fā)生了革命性變革。mt-cvd技術(shù)是以含c/n的有機物乙腈（ch3cn）作為主要反應(yīng)氣體、與ticl4、h2、n2在700～900℃下產(chǎn)生分解、化學反應(yīng)生成ticn的新工藝。采用mt-cvd技術(shù)可獲得致密纖維狀結(jié)晶形態(tài)的涂層，涂層厚度可達8～10μm。這種涂層結(jié)構(gòu)具有極高的耐磨性、抗熱震性及韌性，并可通過高溫化學氣相沉積（ht-cvd）工藝在刀片表面沉積al2o3、tin等抗高溫氧化性能好、與被加工材料親和力小、自潤滑性能好的材料。mt-cvd涂層刀片適于在高速、高溫、大負荷、干式切削條件下使用，其壽命可比普通涂層刀片提高一倍左右。